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TECHNICAL ARTICLES表面水滴角
目的:
通過水滴角測試儀來測試玻璃鏡片表面特性,由水滴角度來間接分析玻璃表面疏水程度,以利判斷產品表面防污力。水滴角測試儀分為以下三種測試方法:
1.直接在成品上面做水滴角度測試。
2.表面未處理前做水滴角度測試。
3.耐磨若干次以后再做水遞角測試。
通過三種測試對比水滴角度,嚴格把控每一關,保證產品的較高品質.
定義為在固、液、氣三相交界面處,氣-液相界面與固-液相界面之間的夾角,水滴角是顯示固體表面濕度的尺度,利用大部分固著物液滴進行測定,低接觸角表示濕度高(親水性)表面易粘貼。高接觸水滴角表示表面顯示疏水性,表面有機污染較重或表面附著力差。
研究級光學接觸角測量儀應用領域
1)、金屬焊接過程中,檢測焊劑對金屬的附著力;
2)、印刷行業(yè)油墨、金屬、紙張之間的附著力;
3)、粘貼劑與固體間的粘接程度研究;
4)、航天工業(yè)空中雨霧對飛機基體的潤濕程度檢測;
5)、科學中彈片在空氣中與雨霧接觸角的測定;
6)、石油開采過程中,注入添加劑與原油中固體前進角,后退角的測定;
7)、納米材料與不同活性劑間濕潤性的測定、研究;
8)、鋁箔親水角的測定;
9)、凸凹眼鏡片親水性、疏水性測定
10)、包裝用品污染程度測定等等
技術參數(shù)
1)、.滴定方式:靜滴法
2)、測量方法:量角法,量高法,切線法等
3)、載物平臺系統(tǒng)
載物臺尺寸:100×130mm2
4)、光學系統(tǒng)
①物鏡變倍范圍:0.7--4.5X
③總放大倍數(shù):12.6~81X(以17寸顯示器,0.5 X適配目鏡為例)
④圖像放大方式:連續(xù)變焦
5)、 光源
①LED冷光源,白色
②工作電源:DC3.1V,200mA
6)、 微量進樣器:0~100μl,每格2μl 或 0~50μl,每格1μl
7)、攝像頭
①COMS傳感器
②有效像素:1280×1024或自選
③幀率:30fps
8)、電源:DC5v功耗:5w
9)、角度測量精度:0.1°
10)、圖像采集方式:照相:單幅,多幅**10幅);錄像。在播放器中支持單幀、連續(xù)幀的采集。
11)、電腦配置
WinXP以上計算機操作系統(tǒng)
顯示器:17吋
12)、輸入電源:AC220V,5A
13)、儀器外形尺寸:640×200×480mm
狀況:
鍍膜或表面處理處理后,肉眼無法分辨其處理效果,是否達到防指紋及耐磨狀況,通過水滴角測量,以減少返工或不良品浪費。
水滴角測試儀基本原理:水滴角的定義為在固、液。氣三相交界面處,氣-液相界面與固-液相界面之間的夾角,水滴角是顯示固體表面濕度的尺度,利用大部分固著物液滴進行測定,低接觸角表示濕度高(親水性)表面易粘貼。高接觸水滴角表示表面顯示疏水性,表面有機污染較重或表面附著力差。與平坦的固體表面像接觸的液體的接觸角,通過液體-固體-氣體接合點中水珠曲線的終點和固體表面的接觸點測定出來。
水滴角測試儀應用領域
TFT-LCD面板行業(yè):玻璃面板潔凈度與鍍膜質量測量;TFT打印電路、彩色濾光片、 ITO導體膠卷等前涂層質量測
量;半導體,平面顯示器、光學行業(yè)掩膜親水性測量
印刷、塑料行業(yè):表面清潔與附著質量測量;油墨附著度測量;催化劑測量;膠水膠體性質兼容性測量;染料的緊
扣度
半導體產業(yè):晶圓的潔凈度測量;HMDS的處理控制;CMP的研究測量、光阻與顯影劑的研究
化學材料研究:防水與親水性能材料研究探討;表面活性與清潔劑的張力、濕性;黏性增強與附著表面能測量
IC封裝:基質表面潔凈度;原子合成氧化識別;BGA焊接表面;環(huán)氧化物的附著度測量
紙張、紙尿褲、衛(wèi)生護墊等材料的吸水性以及可印刷性等性質分析;
維、織物、碳纖維、玻璃纖維與樹脂的新功能開發(fā)、表面性質、印染等性質分析;
液晶屏、硬盤、屏幕保護膜、觸摸屏、LCD、LED、光學零件、半導體芯片、Wafer、微電子等行業(yè)表面清潔度分析
以及質量控制、新材料開發(fā)研究以及等離子處理等表面處理效果評估;
聚合物、高分子材料及金屬材料表面修飾、表面改性、印刷性質等分析;
薄膜、偏光片、膠片、感光材料的新材料開發(fā)、印刷性等分析;
生物材料、仿生材料的研發(fā)及其應用分析,如檢測和表征蛋白質、肺表面活性劑、表征生物兼容性材料(高分子材料)的潤濕和粘附性、競爭以及粘附的蛋白質。
食品工業(yè):如人造骨、隱形眼鏡、眼鏡玻璃的潤濕、吸附性質分析;
超疏水和超親水材料的研究、可潤濕性分析;
空調親水鋁箔、絕緣子、巖芯、煤礦、瀝青的潤濕性分析以及新材料;
電潤濕接觸角轉化、電透鏡研究等;
表面活性劑應用研究,如化妝品、清潔劑、乳液、石油行業(yè)(三次采油)等;
噴霧、農藥、油漆、墨水、油墨和涂料行業(yè)配方設計及潤濕性分析;
大學實驗室研發(fā)、課題、研究等;
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